연혁

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2021

01.01

수출 유망중소기업 선정 <중소벤처기업부>

2020

06

특허등록 [내화학성 및 고투과율을 가지는 대전방지 포토마스크 제조]

03

특허등록 [방오코팅 포토마스크 패턴 유실 수리 방법]
특허등록 [대전방지 특성 포토마스크 제조]

2019

10

정보디스플레이대상 산업부 장관상 수상 [산업통상자원부]
소재.부품전문기업 지정 [산업통상자원부]

05

성과공유기업 제도 시행 [중소벤처기업부]

01

청년친화 강소기업 선정

2018

12

국무총리상 수상 (신기술 실용화 촉진대회)

09

특허등록(세정 용이성이 우수한 친환경 포토마스크 제조방법)

04

ISO 9001:2015 개정판 인증 완료(한국능률협회 경영인증원)
ISO 14001:2015 개정판 인증 완료(한국능률협회 경영인증원)

2017

11

한국산학연협회장 표창장 수여
NET(신기술) 인증(대전방지 포토마스크 제조기술)

10

시장친화형 기능개선 기술개발 사업 국책과제 선정(기능성 포토마스크 제조기술)

06

일자리 우수기업 인증
뿌리기업 자동화 첨단화 지원산업 국책과제 선정(균일 도포 코팅 자동화 시스템 구축)
구매조건부 신제품개발산업 국책과제 선정(수율 향상형 포토마스크 개발)

03

특허등록(정전기 방전에 의한 패턴 손상 방지용 포토마스크 및 제조 방법)

01

경영혁신형 중소기업(MAIN-BIZ) 인증 취득

2016

10

한국디스플레이산업협회 회원사 등록

08

뿌리기업. 뿌리기술 전문기업 선정

2015

06

환경관리 우수사업장 인증(안산시 산업지원 본부 공단)

2014

06

ISO 14001 인증 획득(한국능률협회 경영인증원)

03

신축공장 확장 이전(국내 최대 Size – 8세대급 이상 포토마스크 서비스)

02

특허등록 고출력 레이저를 이용한 패터닝용 고출력 마스크 및 그 제조방법

01

강소기업 선정(고용 노동부)

2013

11

병역 지정 업체 선정(병무청)

2012

04

(사) 한국전자회로산업협회 회원사 등록

2010

08

특허 등록(다이렉트 이미지를 이용한 Chip On Glass(C.O.G) 제조 방법)

2009

04

경기도 유망 중소기업 선정

2008

10

법무부 장관 표창장 수여

09

기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ 인증 취득)

05

기업 부설 연구소 설립

2006

04

ISO 9001 인증 획득(한국능률협회 경영인증원)

2004

07

Glass Photo Mask 서비스
특허등록 PCB 가이드 홀, 패널의 여유공간 설계 방법

2003

06

한국 무역 협회(KITA 회원사 등록)

05

해외 대표 사무소 설립(베트남 하노이)

01

특허등록 로컬 시스템 ~ 플로터간 인터페이스 방법

2002

06

㈜ 네프코 상표 등록(특허청:41-2000-0031759)

2001

07

CAM Software 특허 등록

2000

04

법인 전환 : ㈜네프코

1997

05

Genesis Workstation 도입

1994

03

Laser Plotter 도입

1992

07

신전자기획 설립