Chrome Mask
Chrome Mask
반도체 집적회로 구조의 패턴 형상을 크롬(Chrome : Cr+3)이 도포된 석영유리(Quartz) 또는 소다라임(Soda-Lime) 등에 형성한 것으로 가시광선, 자외선, X선 등을 이용한 노광 장비에 사용되며 레지스트의 미세한 상을 표현하는 능력, 일반적으로 라인 앤 스페이스 상(Line and Space Image)을 형성할 수 있는 최소의 선 또는 공간의 폭을 나타내는 능력이 우수하다.
Chrome Mask Specification
| Contents | Specification | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| Level | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
| Address Grid Plot Pitch | 0.012㎛ | 0.0125㎛ | 0.025㎛ | 0.05㎛ | 0.1㎛ |
| CD (Critical Dimension) | 1.2㎛ | 1.5㎛ | 3.0㎛ | 5.0㎛ | 10.0㎛ |
| CD Tolerance | ± 0.10㎛ | ± 0.15㎛ | ± 0.30㎛ | ± 0.50㎛ | ± 1.00㎛ |
| Substrate | Only Quartz Base | Quartz or Soda-Lime Base | |||
| Material Size | 5 X 5 Inch ~ 2,000 X 2,500 ㎜ | ||||
| Thickness | 1.5T / 2.3T / 3.0T / 4.8T / 5.0T / 10T / 13T | ||||
Chrome Mask Line Up
㈜네프코는 국내 최초, 최대 크기 2,000X2,500mm PHOTO MASK를 제작 합니다!
| 구분 (Size) | Thickness [mm] |
Substrate | Special Option |
||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 분류 | [mm] | [in] | 1.5 | 2.3 | 3.0 | 4.8 | 6.35 | 7.8 | Soda-Lime | Quartz | Tempax | Anti-ESD | Pellicle |
| Small Mask | 127.0 x 127.0 | 5 x 5 | ● | ● | ● | ● | ● | ||||||
| 152.4 x 152.4 | 6 x 6 | ● | ● | ● | ● | ● | |||||||
| 177.8 x 177.8 | 7 x 7 | ● | ● | ● | ● | ● | |||||||
| Large Mask | 203.2 x 203.2 | 8 x 8 | ● | ● | |||||||||
| 228.6 x 228.6 | 9 x 9 | ● | ● | ● | ● | ||||||||
| 350 x 350 | - | ● | ● | ● | |||||||||
| 355.6 x 355.6 | 14 x 14 | ● | ● | ● | ● | ● | |||||||
| 355.6 x 431.8 | 14 x 17 | ● | ● | ||||||||||
| 406.4 x 533.4 | 16 x 21 | ● | ● | ||||||||||
| 508.0 x 609.6 | 20 x 24 | ● | ● | ● | ● | ||||||||
| 609.6 x 609.6 | 24 x 24 | ● | ● | ● | |||||||||
| 609.6 x 711.2 | 24 x 28 | ● | ● | ● | ● | ● | |||||||
| 700.0 x 800.0 | - | ● | ● | ● | ● | ||||||||
| 812.8 x 1092.2 | 32 x 43 | ● | ● | ● | ● | ||||||||
| 914.4 x 1498.6 | 36 x 59 | ● | ● | ||||||||||
| 1,100 x 1,260 | - | ● | ● | ||||||||||
| 1,220 x 1,400 | - | ● | ● | ||||||||||
| 2,000 x 2,500 | - | ● | ● | ||||||||||
기타 특수 Size 및 Thickness는 별도 문의 바랍니다.
빛의 파장과 광원
포토마스크는 원재료인 Blank Mask에 패턴을 새겨 넣어 만들어진다.
Blank Mask 위에는 감광을 위한 PR(Photo Resist)이 박막(5,000 ~ 10,000Å)으로 도포 되어 있다.
PR의 Type은 Positive와 Negative Type이 있으며 포토마스크에는 주로 Positive Type의
PR이 사용 되며 , Positive PR은 노광 시 빛을 받으면 분자들이 반응하여 이격 되는 현상이 발생하고
현상과정에서 빛을 받은 부분의 PR이 제거 된다.
| Source of Light | Wavelength |
|---|---|
| EUV | 10~100 ㎚ |
| ARF | 193 ㎚ |
| KRF | 248 ㎚ |
| I-LINE | 365 ㎚ |
| H-LINE | 405 ㎚ |
| G-LINE | 436 ㎚ |
| Color | Frequency | Wavelength |
|---|---|---|
| Violet | 668 ~ 789 THz | 380 ~ 450 ㎚ |
| Blue | 631 ~ 668 THz | 450 ~ 475 ㎚ |
| Cyan | 606 ~ 630 THz | 476 ~ 495 ㎚ |
| Green | 526 ~ 606 THz | 495 ~ 570 ㎚ |
| Yellow | 508 ~ 526 THz | 570 ~ 590 ㎚ |
| Orange | 484 ~ 508 THz | 590 ~ 620 ㎚ |
| Red | 400 ~ 484 THz | 620 ~ 750 ㎚ |
Quartz & Soda-Lime의 물성
| Material | SiO2 | Al2O3 | R2O3 | Na2O | K2O | RO | Heat Properties |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Quartz | 100 | 4~5X10-7 / ℃ | |||||
| Soda-Lime | 73 | 1 | 15 | 1 | 10 | 81~94X10-7 / ℃ | |
| Chrome | 70X10-7 / ℃ |
Quartz & Soda-Lime 열팽창 계수
Standard
Quartz/Soda-Lime 사용 시 500㎜ 기준으로 온도 1℃ 변화 시 거리 값의 변화를 의미
Quartz
Quartz의 경우 온도 1℃ 변화 시 500㎜ 기준에서 0.25㎛ 변화 발생
Soda-Lime
Soda-Lime의 경우 온도 1℃ 변화 시 500㎜ 기준에서 4.05㎛ 변화 발생