• 회사소개
    • 회사개요
    • 찾아오시는 길
  • 사업영역
    • PHOTO MASK
    • 기능성 제품
    • R & D
  • 지속가능경영
    • 경영체계도
    • 품질·환경·보건·경영
  • 고객지원
    • 게시판
    • 견적요청
  • 채용정보
    • 입사지원
    • 인재상
    • 복리후생
  • English

회사개요

COMPANY INFO

  1. CEO 인사말
  2. 연혁
  3. 수상
  4. 인증
  5. 특허

특허

접촉식 리소그래피 공정용 탈착 용이성이 우수한 포토마스크 및 그 제조 방법

세정 용이성 및 내마모성이 우수한 친환경 포토마스크및 이의 제조방법

고투과 포토마스크 및 이의 제조방법

향상된 표면경도와 방오 기능성이 부여된 에멀젼 포토마스크의 형성방법

내화학성 및 고투과율을 가지는 대전방지 포토마스크 및 그 제조방법

방오코팅 포토마스크의 패턴 유실 결함 수리 방법

대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성

세정 용이성이 우수한 친환경 포토마스크 제조방법

정전기 방전에 의한 패턴 손상 방지용 포토마스크

고출력 레이저

다이렉트 칩온글라스(COG) 제조방법

(주)네프코 | [15600] 경기도 안산시 단원구 산단로 83번길 55(원시동) | Tel : 031-492-4291 | E-mail : pm@nepco.co.kr
© 2017 NEPCO Co,.Ltd. All rights reserved.