연혁
2024
12
특허등록 [접촉식 리소그래피 공정용 탈착용이성이 우수한 포토마스크 및 그 제조 방법]
08
ISO 45001 인증 획득
2022
06
특허등록[고투과 포토마스크 및 이의 제조방법]
04
특허등록[세정 용이성 및 내마모성이 우수한 친환경 포토마스크및 이의 제조방법]
2021
10
특허등록[향상된 표면경도와 방오 기능성이 부여된 에멀젼 포토마스크]
01
수출 유망중소기업 선정 <중소벤처기업부>
2020
06
특허등록 [내화학성 및 고투과율을 가지는 대전방지 포토마스크 제조]
03
특허등록 [방오코팅 포토마스크 패턴 유실 수리 방법]
특허등록 [대전방지 특성 포토마스크 제조]
2019
10
정보디스플레이대상 산업부 장관상 수상 [산업통상자원부]
소재.부품전문기업 지정 [산업통상자원부]
05
성과공유기업 제도 시행 [중소벤처기업부]
01
청년친화 강소기업 선정
2018
12
국무총리상 수상 (신기술 실용화 촉진대회)
09
특허등록(세정 용이성이 우수한 친환경 포토마스크 제조방법)
04
ISO 9001:2015 개정판 인증 완료(한국능률협회 경영인증원)
ISO 14001:2015 개정판 인증 완료(한국능률협회 경영인증원)
2017
11
한국산학연협회장 표창장 수여
NET(신기술) 인증(대전방지 포토마스크 제조기술)
10
시장친화형 기능개선 기술개발 사업 국책과제 선정(기능성 포토마스크 제조기술)
06
일자리 우수기업 인증
뿌리기업 자동화 첨단화 지원산업 국책과제 선정(균일 도포 코팅 자동화 시스템 구축)
구매조건부 신제품개발산업 국책과제 선정(수율 향상형 포토마스크 개발)
03
특허등록(정전기 방전에 의한 패턴 손상 방지용 포토마스크 및 제조 방법)
01
경영혁신형 중소기업(MAIN-BIZ) 인증 취득
2016
10
한국디스플레이산업협회 회원사 등록
08
뿌리기업. 뿌리기술 전문기업 선정
2015
06
환경관리 우수사업장 인증(안산시 산업지원 본부 공단)
2014
06
ISO 14001 인증 획득(한국능률협회 경영인증원)
03
신축공장 확장 이전(국내 최대 Size – 8세대급 이상 포토마스크 서비스)
02
특허등록 고출력 레이저를 이용한 패터닝용 고출력 마스크 및 그 제조방법
01
강소기업 선정(고용 노동부)
2013
11
병역 지정 업체 선정(병무청)
2012
04
(사) 한국전자회로산업협회 회원사 등록
2010
08
특허 등록(다이렉트 이미지를 이용한 Chip On Glass(C.O.G) 제조 방법)
2009
04
경기도 유망 중소기업 선정
2008
10
법무부 장관 표창장 수여
09
기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ 인증 취득)
05
기업 부설 연구소 설립
2006
04
ISO 9001 인증 획득(한국능률협회 경영인증원)
2004
07
Glass Photo Mask 서비스
특허등록 PCB 가이드 홀, 패널의 여유공간 설계 방법
2003
06
한국 무역 협회(KITA 회원사 등록)
05
해외 대표 사무소 설립(베트남 하노이)
01
특허등록 로컬 시스템 ~ 플로터간 인터페이스 방법
2002
06
㈜ 네프코 상표 등록(특허청:41-2000-0031759)
2001
07
CAM Software 특허 등록
2000
04
법인 전환 : ㈜네프코
1997
05
Genesis Workstation 도입
1994
03
Laser Plotter 도입
1992
07
신전자기획 설립