레티클(Reticle)표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로 부터 보호해주는 박막으로 Particle로 인한 오염을 보호하고 이물이 묻어도 초점을 벗어나게하여 웨이퍼 회로 패턴에 영향을 주지 않는다.
막은 양극 산화된 알루미늄 프레임에 부착된 후 다시 레티클 위에 단단히 부착 되어진다.
Material | Perfluoro polymer | Cellulose |
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적용 노광 파장대 | KrF (193nm) | i-, g-, h- line (365nm~436nm) |
투과율 | ≥99% | ≥99% |
Uniformity of TR | ≤0.2% | ≤0.5% |
적산 노광 에너지 | Avg. 500,000J/cm2 | Avg. ≥400,000J/cm2 |
shot 기준 노광 횟수 (400mJ/cm2가정) |
500,000,000mj/cm2÷ 400mj/cm2 = 1,250,000shots |
400,000,000mj/cm2÷ 400mj/cm2 = 1,000,000shots |
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